孙磊,南开大学应用光学学士和光学硕士学位,美国罗切斯特大学光学博士学位,被认定为国家海外高层次留学人才、苏州姑苏创新创业领军人才。作为国际光学工程学会(SPIE)高级会员,已发表26篇专业期刊文章,授权发明专利近40项,其中美国专利32项,41次国际会议及讲演。
曾任职IBM(世界两大半导体研发中心之一)研发联盟及GF高级技术组成员(SMTS),主持了美国第一台EUV光刻原型验证机Alpha Demo Tool以及后续EUV机型NXE: 3300的工艺验证工作,在世界上首次实现了EUV光刻工艺良率,直接参与了14nm、10nm、7nm和5nm节点的研发工作,推动了EUV光刻技术的产业化。
曾任职Metalenz(美国第一家超构透镜光子芯片公司)高级科学家。
深耕光学和半导体领域多年,在超构表面光子芯片研发和量产上具备更加全面的视角和能力,2020年底回国创立山河元景。